Obrabotka Metallov 2013 No. 4

ОБРАБОТКА МЕТАЛЛОВ № 4 (61) 2013 89 ТЕХНОЛОГИЯ Рис. 4. Топография поверхности реза для технологии HiFocus F для толщины 10 мм Рис. 5. Профиллограмма поверхности реза для технологии HiFocus F для толщины 3 мм Рис. 6. Внешний вид реза для технологии HiFocus F при толщине 3 мм Так, для технологии раскроя HiFocus F при толщине 3 мм высота волнистости w состав- ляет 0,027 мм, при этом шаг волнистости Sw – 0,498 мм. Наличие волнистости на поверхности реза наблюдается визуально (рис. 6). Выводы Таким образом, для технологий тонкоструй- ной плазменной резки значение шероховатости поверхности Ra находится в диапазоне от 0,5 мкм до 2 мм для всех исследуемых толщин. При этом наименьшие значения шероховатости соответ- ствуют технологиям HiFocus и HiFocus plus . На образцах, полученных при помощи технологии HiFocus F, наблюдается не только наибольшее значение шероховатости, но и величина волни- стости поверхности реза. Следовательно, техно- логии HiFocus и HiFocus plus можно рекомендовать в качестве окончательной обработки под последу- ющую сборку изделий. В случае использования технологии HiFocus F необходимо введение по- следующей механической обработки.