ОБРАБОТКА МЕТАЛЛОВ Том 28 № 3 2026 190 МАТЕРИАЛОВЕДЕНИЕ исследовали с применением комплекса методов: рентгенофазового анализа (РФА), рамановской спектроскопии, инфракрасной спектроскопии с преобразованием Фурье (ИК-Фурье) и растровой электронной микроскопии с автоэмиссионным катодом (РЭМ-ПЭ). Методы исследования и рабочие параметры, использованные в настоящем исследовании, обобщены в табл. 1. Кристаллическая структура, фазовый состав и межплоскостное расстояние образцов графена и графеновых покрытий на меди анализировали с помощью рентгеновского дифрактометра (Bruker D8 Advance, Германия) с Cu-Kα-излучением (λ = 1,5406 Å) в выбранном диапазоне углов дифракции. Толщина кристаллитов и расчетное количество слоев графена определялись с использованием уравнения Шеррера и закона Брэгга. Для оценки структурного качества, плотности дефектов и слоевых характеристик графена применяли Раман-спектрометр (Xplora Plus, Horiba Scientifi c, Франция), оснащенный лазером с длиной волны возбуждения 532 нм и дифракционной решеткой с плотностью штрихов 1200 штр/мм. Мощность лазера тщательно контролировалась для предотвращения локального термического повреждения нанесенного графена. Для улучшения спектрального разрешения и оценки однородности покрытия на стеклянных подложках методами капельного осаждения и растекания с раскруткой были приготовлены дополнительные графеновые пленки. Функциональные группы и межфазные химические взаимодействия между графеном и медью исследовали с помощью инфракрасной спектроскопии с преобразованием Фурье (ИКФурье, Shimadzu, Япония) в спектральном диапазоне 400…4000 см−1. Морфологию поверхности исследовали с использованием растровой электронной микроскопии с автоэмиссионным катодом (РЭМПЭ, JEOL, Япония). Перед проведением РЭМисследований образцы покрывали тонким токопроводящим слоем для минимизации зарядки поверхности и улучшения качества изображения. РЭМ-съемку выполняли при соответствующих ускоряющих напряжениях и рабочих расстояниях для наблюдения морфологии графеновых листов, степени покрытия поверхности и однородности покрытия. Энергодисперсионную рентгеновскую спектроскопию (ЭДС) использовали совместно с РЭМ-ПЭ для опреТ а б л и ц а 1 Ta b l e 1 Методы исследования, используемое оборудование, рабочие параметры и цели анализа в настоящем исследовании Characterization techniques, instrumentation, operating parameters, and purpose of analysis used in the present study Метод / Technique Оборудование / Equipment Рабочие параметры / Operating parameters Цель анализа / Purpose РФА / XRD Bruker D8 Advance Cu-Kα, λ = 1,5406 Å / Cu-Kα, λ = 1.5406 Å Кристаллическая структура и оценка числа слоев / Crystal structure and layer estimation Рамановская спектроскопия / Raman Horiba Xplora Plus Лазер 532 нм, 1200 штр/мм / 532 nm laser, 1,200 grooves mm−1 Плотность дефектов и исследование слоев / Defect density and layer characterization ИК-Фурье / FTIR Shimadzu FTIR 400…4000 см−1 / 400–4,000 cm−1 Анализ функциональных групп / Functional group analysis РЭМ-ПЭ / FESEM JEOL FESEM Соответствующее ускоряющее напряжение / Appropriate accelerating voltage Анализ морфологии поверхности / Surface morphology analysis ЭДС* / EDS* Oxford Inca Совмещена с РЭМ-ПЭ / Coupled with FESEM Элементный анализ / Elemental analysis
RkJQdWJsaXNoZXIy MTk0ODM1