OBRABOTKAMETALLOV Vol. 28 No. 3 2026 99 TECHNOLOGY эффектом является повышение гомогенности структуры, тогда как при хромсодержащей наплавке определяющим фактором становится перераспределение карбидных фаз. Химический состав и перераспределение элементов (EDS-анализ) Энергодисперсионный рентгеновский анализ (EDS) был выполнен для оценки внедрения и перераспределения легирующих элементов в поверхностных слоях, сформированных при TIG-модификации, а также для определения влияния ВЧЭМП на химическую однородность расплавленной зоны в процессе плавления и последующего затвердевания. Полученные концентрации элементов анализировали в сравнении с исходным химическим составом подложки EN-GJV-400, представленным в табл. 1. Основными элементами исходного материала являются Fe, C, Si, Mn, Cu и Ni, при этом содержание хрома находится на низком уровне. После проведения поверхностной обработки наблюдались дополнительные изменения концентраций Ni, Cu и Cr, зависящие от выбранного технологического режима модификации. Результаты EDS подтвердили наличие характерных элементов матрицы EN-GJV-400 и продемонстрировали успешное введение легирующих компонентов, поступающих в поверхностный слой в процессе обработки. Измеренные распределения элементов в различных областях модифицированных слоев представлены в табл. 8. Сравнение данных для приповерхностной зоны, центральной части слоя и зоны сплавления показывает, что применение ВЧЭМП оказывает влияние на пространственное распределение легирующих элементов за счет изменения условий конвективного перемешивания расплава в процессе плавления и кристаллизации. При традиционном TIG-ремелтинге EN-GJV-400 введение внешних легирующих элементов не осуществлялось. Поэтому наблюдаемые структурные изменения связаны преимущественно Т а б л и ц а 8 Ta b l e 8 Представительное распределение элементов, определенное методом EDS, в выбранных поверхностных слоях EN-GJV-400 после TIG-модификации Representative EDS-measured elemental distribution in selected TIG-modifi ed EN-GJV-400 surface layers Материал / Material Положение в слое / Position in layer Sn (%) Al (%) Si (%) Mn (%) Ni (%) Cu (%) Cr (%) Fe (%) EN-GJV-400 (основной материал) / EN-GJV-400 (base material) – – 0,09 / 0.09 2,41 / 2.41 0,49 / 0.49 0,26 / 0.26 0,67 / 0.67 0,09 / 0.09 Основа / Balance Легирование на основе Cu (CuSn-4) / Cu-based alloying (CuSn-4) Зона сплавления / Fusion zone 0,06 / 0.06 0,07 / 0.07 2,15 / 2.15 0,45 / 0.45 0,29 / 0.29 7,15 / 7.15 0,05 / 0.05 Основа / Balance Центральная часть моди фицированного слоя / Central part of modifi ed layer 0,05 / 0.05 0,04 / 0.04 2,17 / 2.17 0,43 / 0.43 0,41 / 0.41 8,57 / 8.57 0,06 / 0.06 Основа / Balance Поверхность / Surface 0,08 / 0.08 0,09 / 0.09 2,41 / 2.41 0,49 / 0.49 0,32 / 0.32 9,10 / 9.10 0,07 / 0.07 Основа / Balance Легирование на основе Ni (Ni78Si8B14) / Ni-based alloying (Ni78Si8B14) Зона сплавления / Fusion zone – 0,07 / 0.07 2,56 / 2.56 0,40 / 0.40 8,23 / 8.23 0,61 / 0.61 0,07 / 0.07 Основа / Balance Центральная часть модифицированного слоя / Central part of modifi ed layer – 0,08 / 0.08 2,43 / 2.43 0,44 / 0.44 9,11 / 9.11 0,72 / 0.72 0,06 / 0.06 Основа / Balance Поверхность / Surface – 0,10 / 0.10 2,34 / 2.34 0,49 / 0.49 9,32 / 9.32 0,68 / 0.68 0,09 / 0.09 Основа / Balance
RkJQdWJsaXNoZXIy MTk0ODM1