Actual Problems in Machine Building 2014 No. 1

Innovative Technologies in Machine Building I International Scientific and Practical Conference « Actual Problems in Machine Building » ________________________________________________________________ 122 На рисунках 8-9 представлено сравнение внешнего вида спеченной поверхности DSK-F75 при изменении шага сканирования. Увеличении шага сканирования с 0,1 до 0,15 мм, при режимах спекания Р=10 Вт, t=26 0 С, V=300 мм/мин, на рисунке 8 приводит к уменьшению шероховатости поверхности с 425 до 300 мкм, толщины спеченного слоя с 0,65 до 0,4 мм, диаметра коагулированных частиц со 175 до 150 мкм. а б а – S=0,1мм, б – S=0,15мм Рис. 8. Внешний вид спеченной поверхности DSK-F75 (х2), режимы спекания Р=10 Вт, t=26 0 С, V=300 мм/мин У образцов, полученных на режимах спекания Р=20 Вт, t=26 0 С, V=300 мм/мин изменение шага сканирования с 0,1 до 0,15 мм, рисунок 9 приводит к увеличению толщины спеченного слоя с 1,0 до 0,6 мм, уменьшению шероховатости Rz с 625 до 570 мкм и диаметра коагулированных частиц с 375 до 325 мкм. а б а – S=0,1мм, б – S=0,15мм Рис. 9. Внешний вид спеченной поверхности DSK-F75 (х2), режимы спекания Р=20 Вт, t=26 0 С, V=300 мм/мин Увеличение шага сканирования при сравнении образцов, спеченной кобальтхроммолибденовой композиции, приводит к уменьшению коагуляции, шероховатости и толщины спеченного слоя. Образцы получались без дефектов. На рисунке 10 представлено сравнение внешнего вида спеченной поверхности DSK-F75 по температуре подогрева порошкового материала. Увеличение температуры подогрева порошкового материала с 26 до 200 0 С, при режимах Р=10 Вт, S=0,15 мм, V=300 мм/мин, приводит к уменьшению шероховатости поверхности с 300 до 280 мкм, увеличению толщины спеченного слоя с 0,4 до 0,65 мм, уменьшению диаметра коагулированных частиц со 150 до 115 мкм. а б а – t=26 0 С, б – t=200 0 С Рис. 10. Внешний вид спеченной поверхности DSK-F75 (х2), режимы спекания Р=10 Вт, S=0,15мм, V=300 мм/мин Проведенные исследования позволяют сделать вывод о значительном влиянии мощности на качество спеченного поверхностного слоя. При

RkJQdWJsaXNoZXIy MTk0ODM1