Аннотация
Начальная стадия гомоэпитаксии GaAs исследована методом ДБЭО при
ультрамалых степенях заполнения поверхности. Обнаружено, что при степенях заполнения поверхности менее 0.03 монослоя возникает метастабильная фаза a(2x4)-н. При степенях заполнения 0.03–0.09 образуются переходные центры с локальной структурой b1(2x4). При степени заполнения поверхности более 0.09 монослоя возникают стабильные кристаллические зародыши новой фазы.
Ключевые слова: гомоэпитаксия, ДБЭО, поверхностная реконструкция, фазовый переход